Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

Navrátil, Jaroslav

Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

DSpace Repository

Language: English čeština

Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem

dc.contributor.advisor	Urbánek, Michal
dc.contributor.author	Navrátil, Jaroslav
dc.date.accessioned	2022-07-15T09:23:35Z
dc.date.available	2022-07-15T09:23:35Z
dc.date.issued	2021-12-31
dc.identifier	Elektronický archiv Knihovny UTB
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10563/51261
dc.description.abstract	Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM).
dc.format	88
dc.language.iso	cs
dc.publisher	Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně
dc.rights	Bez omezení
dc.subject	Elektronová litografie	cs
dc.subject	polymerní rezist	cs
dc.subject	proces vyvolání	cs
dc.subject	optická mikroskopie	cs
dc.subject	mechanická profilometrie	cs
dc.subject	Sigma Aldrich fotorezist	cs
dc.subject	KMPR 1010	cs
dc.subject	Electron beam lithography	en
dc.subject	polymer resist	en
dc.subject	process of resist development	en
dc.subject	optical microscopy	en
dc.subject	mechanical profilometry	en
dc.subject	Sigma Aldrich photoresist	en
dc.subject	KMPR 1010	en
dc.title	Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
dc.title.alternative	Polymer Resists for E-beam Writing
dc.type	diplomová práce	cs
dc.contributor.referee	Minařík, Antonín
dc.date.accepted	2022-06-09
dc.description.abstract-translated	This diploma thesis focuses on the technique of electron lithography and the preparation of microstructures in commercially available material Sigma Aldrich photoresist and KMPR 1010 phooresist using electron beam exposure. Attention is paid to the process of resist development and electron beam setting. The microstructures are evaluated using an optical microscope, a mechanical profilometer and a scanning electron microscope (SEM).
dc.description.department	Ústav fyziky a mater. inženýrství
dc.thesis.degree-discipline	Materiálové inženýrství	cs
dc.thesis.degree-discipline	Materials Engineering	en
dc.thesis.degree-grantor	Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně. Fakulta technologická	cs
dc.thesis.degree-grantor	Tomas Bata University in Zlín. Faculty of Technology	en
dc.thesis.degree-name	Ing.
dc.thesis.degree-program	Chemie a technologie materiálů	cs
dc.thesis.degree-program	Chemistry and Materials Technology	en
dc.identifier.stag	60967
dc.date.submitted	2022-05-13