Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Repozitář DSpace/Manakin
- Domovská stránka DSpace
- Kvalifikační práce dle fakult
- Fakulta technologická
- Ústav fyziky a mater. inženýrství
- Bakalářské práce
- Zobrazit záznam
Jazyk:
English čeština
Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Není dostupný náhled
| Název: | Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie |
| Autor: | Navrátil, Jaroslav |
| Vedoucí: | Urbánek, Michal |
| Abstrakt: | Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM). |
| URI: | http://hdl.handle.net/10563/49042 |
| Datum: | 2020-02-03 |
| Dostupnost: | Bez omezení |
| Ústav: | Ústav fyziky a mater. inženýrství |
| Studijní obor: | Materiálové inženýrství |
| Klasifikace závěřečné práce a její obhajoby: | A
|
Citace závěřečné práce
Soubory tohoto záznamu
| Soubory | Velikost | Formát | Zobrazit | Popis |
|---|---|---|---|---|
| navrátil_2020_dp.pdf | 3.666Mb |
Zobrazit/ |
None | |
| navrátil_2020_op.docx | 89.55Kb | Neznámý |
Zobrazit/ |
None |
| navrátil_2020_vp.docx | 88.17Kb | Neznámý |
Zobrazit/ |
None |
Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích
-
Bakalářské práce [135]
