Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Show full item record
No preview available
Title:
|
Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie |
Author: |
Navrátil, Jaroslav
|
Advisor: |
Urbánek, Michal
|
Abstract:
|
Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM). |
URI:
|
http://hdl.handle.net/10563/49042
|
Date:
|
2020-02-03 |
Availability:
|
Bez omezení |
Department:
|
Ústav fyziky a mater. inženýrství |
Discipline:
|
Materiálové inženýrství |
Grade for thesis and defense:
|
A
55935
|
Citace závěřečné práce
Files in this item
This item appears in the following Collection(s)
Show full item record
Search DSpace
Browse
-
All of DSpace
-
This Collection
My Account