Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem
Show full item record
No preview available
Title:
|
Polymerní rezisty pro zápis elektronovým svazkem |
Author: |
Navrátil, Jaroslav
|
Advisor: |
Urbánek, Michal
|
Abstract:
|
Tato diplomová práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu mikrostruktur v komerčně dostupných materiálech Sigma Aldrich fotorezist a KMPR 1010 pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolání a nastavení elektronového svazku. Vyhodnocení mikrostruktur probíhá za pomocí optického mikroskopu, mechanického profilometru a skenovacího elektronového mikroskopu (SEM). |
URI:
|
http://hdl.handle.net/10563/51261
|
Date:
|
2021-12-31 |
Availability:
|
Bez omezení |
Department:
|
Ústav fyziky a mater. inženýrství |
Discipline:
|
Materiálové inženýrství |
Citace závěřečné práce
Files in this item
This item appears in the following Collection(s)
Show full item record
Search DSpace
Browse
-
All of DSpace
-
This Collection
My Account