Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Repozitář DSpace/Manakin

Jazyk: English čeština 

Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie

Zobrazit celý záznam

Není dostupný náhled
Název: Využití polymerních rezistů pro přípravu mikro a nanostruktur pomocí elektronové litografie
Autor: Navrátil, Jaroslav
Vedoucí: Urbánek, Michal
Abstrakt: Tato práce se zaměřuje na techniku elektronové litografie a přípravu struktur v polymerním rezistu PMMA pomocí expozice elektronovým svazkem. Pozornost je věnována procesu vyvolávání rezistu a vyhodnocení struktur pomocí optického mikroskopu, mechanického profilemetru a mikroskopu atomárních sil (AFM).
URI: http://hdl.handle.net/10563/49042
Datum: 2020-02-03
Dostupnost: Bez omezení
Ústav: Ústav fyziky a mater. inženýrství
Studijní obor: Materiálové inženýrství
Klasifikace závěřečné práce a její obhajoby: A 55935


Citace závěřečné práce

Soubory tohoto záznamu

Soubory Velikost Formát Zobrazit Popis
navrátil_2020_dp.pdf 3.666Mb PDF Zobrazit/otevřít None
navrátil_2020_op.docx 89.55Kb Neznámý Zobrazit/otevřít None
navrátil_2020_vp.docx 88.17Kb Neznámý Zobrazit/otevřít None

Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit celý záznam

Find fulltext

Prohledat DSpace


Procházet

Můj účet